Reticulante de Fenilglicoluril CAS 721969-01-3 – Fornecedor de Pureza Ultra Alta para Litografia ArF e KrF

Especificação de Imidazo[4,5-D]Imidazole-2,5(1H,3H)-Dione, Tetrahydro-1,3,4,6-Tetrakis(Methoxymethyl)-3a-Methyl-6a-Phenyl-

Especificação 1: Pureza ≥99,5%, impurezas metálicas totais ≤500 ppb

Especificação 2: Pureza ≥99,9%, impureza metálica individual ≤10 ppb

Name	Imidazo[4,5-d]Imidazole-2,5(1H,3H)-dione, tetrahydro-1,3,4,6-tetrakis(methoxymethyl)-3a-methyl-6a-phenyl-
Número CAS	721969-01-3
Fórmula molecular	C₁₉H₂₈N₄O₆
Fórmula estrutural
Aplicações	Aplicado em materiais semicondutores, fotorresistes e nas áreas de fotorresistes ArF e KrF.
Pureza	Grau 1: ≥99%
Grau 2: ≥99%, impurezas metálicas totais ≤50 ppb
Especificação de embalagem	kg/saco, 25 kg/tambor

Aplicações deImidazo[4,5-D]Imidazole-2,5(1H,3H)-Dione, Tetrahydro-1,3,4,6-Tetrakis(Methoxymethyl)-3a-Methyl-6a-Phenyl-

Em semicondutores e fotorresistes, é utilizado especificamente como reticulante de ultra-alta pureza em formulações de fotorresistes ArF e KrF para a fabricação de chips em nós tecnológicos avançados.

FAQ

Q1: Quais graus de ultra-alta pureza são oferecidos para fotorresistes ArF/KrF?

R: Duas especificações: ≥99,5% (impurezas totais ≤500 ppb) e ≥99,9% (impureza metálica individual ≤10 ppb).

Q2: Quais instrumentos analíticos são usados para testar metais traço?

R: Utiliza-se ICP-MS de alta sensibilidade para análise multielementar de metais traço.

Q3: Como solicitar amostras sob um NDA?

R: Após a assinatura de um NDA, as amostras de fotorresiste de ultra-alta pureza são enviadas em até 5 dias úteis.